उत्पाद विवरण
इस मजबूत, समान रूप से छिद्रयुक्त सिरेमिक में खुली छिद्रता 40-50% है, जिसमें एक टेढ़ी छिद्र संरचना और छिद्र का आकार 1 से 100 माइक्रोन तक है।

छिद्रयुक्त सिरेमिक के लाभ
अधिकतम तापमान: छिद्रयुक्त सिरेमिक 1000 डिग्री तक के तापमान को सहन कर सकते हैं, जो केवल सीलेंट, गैसकेट और/या हार्डवेयर सामग्री द्वारा सीमित होता है।
संक्षारण प्रतिरोध: छिद्रयुक्त सिरेमिक अधिकांश अम्लों के प्रति प्रतिरोधी होते हैं, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड और फॉस्फोरिक एसिड को छोड़कर। क्षारीय घोल में, वे pH 9 तक का सामना कर सकते हैं। वे कार्बनिक विलायकों के प्रति भी प्रतिरोधी होते हैं, हालांकि सीलेंट, गैसकेट या हार्डवेयर सामग्री का चुनाव कुछ तरल पदार्थों के साथ संगतता को सीमित कर सकता है।
सफाई: छिद्रयुक्त सिरेमिक को हटाए जाने वाले दूषित पदार्थों के आधार पर विभिन्न तरीकों से साफ किया जा सकता है। सफाई के तरीकों में स्प्रे करना, ब्रश करना, बैकवाशिंग, ओवन बेकिंग, पतला एसिड सफाई, विलायक सफाई, भाप सफाई और अल्ट्रासोनिक सफाई शामिल हैं।
सामग्री के प्रकार: एल्युमिनियम ऑक्साइड एक मानक सामग्री है जिसका घनत्व 2.2 ग्राम/सीसी है और इसका अधिकतम ऑपरेटिंग तापमान 1400 डिग्री फ़ारेनहाइट (800 डिग्री) है। सिलिकॉन कार्बाइड, जो अधिक कठोर अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है, का घनत्व 1.9 ग्राम/सीसी है और यह 1800 डिग्री फ़ारेनहाइट (1000 डिग्री) तक के तापमान का सामना कर सकता है, जिसमें उत्कृष्ट थर्मल शॉक प्रतिरोध है।
सतह गुण: ये मानक छिद्रयुक्त सिरेमिक सामग्री स्वाभाविक रूप से हाइड्रोफिलिक होती हैं, लेकिन विशिष्ट अनुप्रयोगों में विशिष्ट प्रदर्शन विशेषताओं के लिए इन्हें लेपित या संसेचित किया जा सकता है।
छिद्रयुक्त सिरेमिक के गुण
- एकसमान छिद्र आकार और उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र
- अम्लीय और क्षारीय दोनों स्थितियों में उत्कृष्ट रासायनिक प्रतिरोध
- अच्छा पहनने और संक्षारण प्रतिरोध
- उच्च तापमान प्रतिरोध
- अच्छी कठोरता और आयामी स्थिरता
- विभिन्न उत्प्रेरक या कार्यात्मक सामग्रियों के साथ लेपित या संसेचित किया जा सकता है
- उच्च छिद्रता और एकसमान छिद्र आकार अनुप्रयोगों में गैस और तरल प्रवाह के प्रतिरोध को कम करते हैं
पोरस सिरेमिक उत्पाद श्रेणी में शामिल हैं:
- झिल्ली और अखंड ट्यूब
- डिस्क
- एल्युमिना और सिलिकॉन कार्बाइड से बने प्लेटों और अन्य घटकों को छिद्र के आकार और छिद्रता पर सख्त नियंत्रण की आवश्यकता होती है


सूचीबद्ध अनुप्रयोग:
- गैस और तरल फिल्टर
- केशिका वैद्युतकणसंचलन
- पानी में भारी धातु आयनों (जैसे, Cr, Ni) का निस्पंदन
- गैस अवशोषण के लिए उच्च तापमान रासायनिक सहायता
- उच्च दक्षता उत्प्रेरक वाहक
- गैस बर्नर
- क्रोमैटोग्राफी
- माइक्रो-कैप्चर सिस्टम और बायोकैटेलिटिक वाहक
- वैक्यूम फिक्स्चर (वैक्यूम ब्लॉक)
- सेंसर अनुप्रयोगों के लिए नैनो-झिल्ली समर्थन
- माइक्रोबबल डिफ्यूजर
- वैद्युतकणसंचलन के लिए पतली चैनल या सूक्ष्म चैनल
- रासायनिक या जैविक रिएक्टर
- छिद्रयुक्त सिरेमिक का उपयोग रासायनिक प्रसंस्करण, अर्धचालक विनिर्माण, फार्मास्यूटिकल्स और अन्य उद्योगों में किया जाता है, जिनमें छिद्र के आकार पर सटीक नियंत्रण की आवश्यकता होती है।
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